fotorezyst

Fotorezysty

Fotorezysty do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metamateriałów, hologramów.

    Ta strona jest chroniona przez reCAPTCHA oraz Google Polityka Prywatności | Warunki użytkowania.

    Oferujemy szeroką gamę fotorezystów do stosowania z technikami litografii elektronowej, laserowej, mask-aligner, do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metariałów, hologramów.

     FOTOREZYSTY E-BEAM POZYTYWOWE I NEGATYWOWE:

    • Wysokorozdzielcze do procesów mix and match i stabilne do temperatur >120˚C
    • Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
    • Fotorezysty oparte na PMMA do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
    • Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i struktur holograficznych
    • Wysokoczułe fotorezysty
    • Fotorezysty odporne na trawienie

    FOTOREZYSTY OPTYCZNE POZYTYWOWE I NEGATYWOWE

    • Fotorezysty zgodne z i-, g-line, e-beam, X-ray, synchrotron, szerokie spektrum UV
    • Wysoka czułość, łatwe w usuwaniu
    • Stabilne w procesach powlekania elektrochemicznego
    • Do wytwarzania skomplikowanych struktur z trawieniem w HF
    • Do wytwarzania zintegrowanych obwodów
    • Możliwość stosowania do 300˚C
    • Fotorezysty typu „image reversal”

    ODCZYNNIKI:

    • Wywoływacze
    • Utrwalacze
    • Promotory adhezji
    • Odczynniki cieniujące
    • Odczynniki do usuwania fotorezystów