Firma Picosun Oy światowy lider w produkcji systemów ALD  nawiązał współpracę z Hitachi High-Technologies Corporation w zakresie rozwoju nowych technologii nanoszenia cienkich warstw atomowych wspomaganych plazmą typu ECR (elektronowy rezonans cyklotronowy). W odróżnieniu od stosowanej dotychczas plazmy ICP nowe źródło charakteryzujące się wysoką mocą otwiera nowe możliwości rozwoju technik nakładania warstw charakteryzujących się znacznie lepszą jakością oraz precyzją procesu. Umożliwi ono produkcję urządzeń elektronicznych takich jak tranzystory, czy pamięci o zwiększonej gęstości warstw, a zarazem z wyższą prędkością procesu. Otrzymane warstwy charakteryzują się doskonałą czystością oraz lepszymi właściwościami elektrycznymi. Z tego względu stanowi to idealne rozwiązanie dla przemysłu półprzewodnikowego. Mikrofalowe źródło ECR zostało zainstalowane w produkcyjnym reaktorze P-300 Picosun umożliwiając prowadzenie procesów na podłożach o wymiarach do 300 mm. W ramach współpracy udało się otrzymać wysokiej jakości warstw tlenkowe oraz azotkowe.

Notka prasowa ECR-ALD

Picosun Oy jest światowym liderem w produkcji wysokiej jakości reaktorów do nakładania warstw atomowych (ALD). Jego doświadczenie sięga początków wynalezienia tej metody przez Dr. Tuomo Suntola w 1974r., obecnie członka zarządu firmy Picosun. Więcej na temat reaktorów ALD….