Dla producentów drukowanych płyt elektronicznych oraz producentów elektroniki oferujemy rewolucyjną metodę nakładania cienkich, nanometrycznych i 100% konforemnych warstw ochronnych. Główne cechy technologii: Hermetyczne, gęste warstwy nakładane metodą ALD (Atomic Layer Deposition) 100% konforemność – dokładne zabezpieczenie nawet skomplikowanych układów trójwymiarowych Nakładanie warstw w niskich temperaturach zapobiegających uszkodzeniom układów elektronicznych Zabezpieczenie przeciwko utlenianiu, wilgoci, zalaniu, powstawaniu […]

Czym jest proces sol-gel? Proces sol-gel wykorzystywany jest w wytwarzaniu materiałów stałych. Nakładanie warstw z użyciem metody sol-gel umożliwia wytworzenie jedno lub wieloskładnikowych powłok tlenkowych na podłożach szklanych lub metalicznych. Istnieją dwie zasadnicze metody nakładania cienkich warstw: metoda powlekania obrotowego (spin coating) dla jednostronnego powlekania sol-gel lub powlekania przez zanurzanie (dip-coating) dla obustronnego powlekania. Obie […]

Jak polepszyć jednorodność nakładanych warstw podczas pokrywania powierzchni prostokątnych lub kwadratowych z użyciem spin coater? Cóż, trzy podstawowe problemy, z jakimi możecie Państwo się zmierzyć, gdy podłoża mają kształt prostokątny lub kwadratowy jest efekt “edge beads”, efekt geometryczny oraz efekt Bernoulli. Występowanie powyższych efektów powodować może znaczne pogorszenie jakości otrzymywanych warstw. Jednakże możecie mieć Państwo […]

Wyzwaniem dla produkcji urządzeń opartych na grafenie jest jego powierzchniowa modyfikacja, polegająca na nałożeniu wysokiej jakości ultra-cienkich warstw materiałów o określonych funkcjach. Technologia osadzania warstw atomowych (ALD) odpowiada tym potrzebom umożliwiając nakładanie cienkich, konforemnych warstw z kontrolą przyrostu do grubości pojedynczych atomów. Poniższe publikacje przedstawiają przykłady modyfikacji grafenu w reaktorach Picosun 1. Zhou, P. et […]

Picosun Oy, wiodący dostawca urządzeń oraz technologii do nanoszenia cienkich warstw metodą ALD nawiązał współpracę z Osram Opto Semiconductors oraz partnerami naukowymi celem wytworzenia nowej generacji źródeł światła typu LED. W ramach projektu zaprojektowane zostaną LEDy charakteryzujące się bardzo wysoką jasnością świecenia oraz długą żywotnością. Na chwilę obecną stanowi to olbrzymie wyzwanie dla całej branży. W chwili obecnej […]

Firma Picosun Oy światowy lider w produkcji systemów ALD  nawiązał współpracę z Hitachi High-Technologies Corporation w zakresie rozwoju nowych technologii nanoszenia cienkich warstw atomowych wspomaganych plazmą typu ECR (elektronowy rezonans cyklotronowy). W odróżnieniu od stosowanej dotychczas plazmy ICP nowe źródło charakteryzujące się wysoką mocą otwiera nowe możliwości rozwoju technik nakładania warstw charakteryzujących się znacznie lepszą jakością oraz […]

LisoPUR jest innowacyjnym produktem dedykowanym do usuwania rezystów w procesach wytwarzania materiałów elektronicznych. Może być używany także w procesach metal lift-off oraz Post-Etch Clean. W odróżnieniu do dotychczas dostępnych środków chemicznych zasada działania polega na mechanicznym usunięciu warstw fotorezystu bez chemicznego udziału takiego jak trawienie czy rozpuszczanie. Możliwe jest to dzięki innowacyjnej technologii Intelligent fluids® polegającej na dynamicznej zmianie wewnętrznej […]

Właśnie uruchomiliśmy odświeżoną stronę internetową. Zapraszamy Państwa do cyklicznego jej odwiedzania. Znajdziecie Państwo na niej oprócz pełnej oferty produktowej także przykładowe zastosowania aplikacyjne. W przypadku zainteresowania oferowanymi przez Devmatech technologiami serdecznie zapraszamy do kontaktowania się. Z przyjemnością odpowiemy na wszelkie Państwa pytania. Pozdrawiamy Zespół Devmatech