LisoPUR jest innowacyjnym produktem dedykowanym do usuwania rezystów w procesach wytwarzania materiałów elektronicznych. Może być używany także w procesach metal lift-off oraz Post-Etch Clean. W odróżnieniu do dotychczas dostępnych środków chemicznych zasada działania polega na mechanicznym usunięciu warstw fotorezystu bez chemicznego udziału takiego jak trawienie czy rozpuszczanie. Możliwe jest to dzięki innowacyjnej technologii Intelligent fluids® polegającej na dynamicznej zmianie wewnętrznej struktury fluidu z częstotliwością dochodzącą do 1000 – 8000 razy na sekundę!

LisoPUR nie zawiera w sobie żadnych rozpuszczalników oraz agresywnej chemii, jest przetestowany dermatologicznie, dzięki czemu jego stosowanie jest w pełni bezpieczne dla człowieka oraz struktur poddanych jego działaniu.

Innowacyjność produktu została także opisana w Compound Semiconductor: https://www.compoundsemiconductor.net/article/91251-water-based-strippers-tread-lightly-on-the-environment.html

LisoPUR dostępny w ofercie Devmatech, gorąco zapraszamy do testowania!

Więcej informacji na temat LisoPUR