PicoMaster 200

Litografia laserowa

Wolnostojący system do litografii laserowej dla podłoży do 8`` z możliwością tworzenia wzorów o szerokości od 300 nm

    Ta strona jest chroniona przez reCAPTCHA oraz Google Polityka Prywatności | Warunki użytkowania.

    PicoMaster 200 to wszechstronny, precyzyjny system litografii laserowej zaprojektowany do prostego tworzenia mikrostruktur w warstwach światłoczułych oraz do wytwarzania masek.  Praca urządzenia w trybie rastrowym zapewnia prawidłowe i stałe naświetlanie całej powierzchni podłoża.

    Obsługa do 4095 poziomów w skali szarości lub w trybie czystym binarnym umożliwia tworzenie struktur optycznych 3D, struktur powierzchniowych oraz projektów masek, co czyni PicoMaster 100 idealnym narzędziem  do prac badawczo-rozwojowych.

    Optyka i autofokys:
    Elementy optyczne i cała ścieżka optyczna są umieszczone w łatwo wymiennym module.
    Utrzymywanie możliwie jak najkrótszej ścieżki optycznej  znacznie zwiększa stabilność pozycjonowania wiązki.
    Sterowany laserem 650 nm autofokus automatycznie koryguje błędy wynikające z nierównych powierzchni lub podłoży będących pod skosem.


    CECHY

    • Najwyższa rozdzielczość na rynku z zastosowaniem długo-żywotnego lasera diodowego 405 nm
    • Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 300 nm
    • Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
    • Możliwość montażu źródła 375 nm dla wymagających zastosowań
    • Rastrowy tryb pracy
    • Wybór trybu pracy za pomocą oprogramowania
    • Wielkość podłoży od 5 mm x 5 mm do 8” x 8”

    ZASTOSOWANIA

    • Półprzewodniki
    • Fotonika
    • Wytwarzanie masek
    • Litografia 3D
    • Optyka dyfrakcyjna
    • Mikrofluidyka
    • Zabezpieczenia / hologramy
    • Inne