PicoMaster 200

Wolnostojący system do litografii laserowej dla podłoży do 8`` z możliwością tworzenia wzorów o szerokości od 300 nm

PicoMaster 200 to wszechstronny, precyzyjny system litografii laserowej zaprojektowany do prostego tworzenia mikrostruktur w warstwach światłoczułych oraz do wytwarzania masek.  Praca urządzenia w trybie rastrowym zapewnia prawidłowe i stałe naświetlanie całej powierzchni podłoża.

Obsługa do 4095 poziomów w skali szarości lub w trybie czystym binarnym umożliwia tworzenie struktur optycznych 3D, struktur powierzchniowych oraz projektów masek, co czyni PicoMaster 100 idealnym narzędziem  do prac badawczo-rozwojowych.

Optyka i autofokys:
Elementy optyczne i cała ścieżka optyczna są umieszczone w łatwo wymiennym module.
Utrzymywanie możliwie jak najkrótszej ścieżki optycznej  znacznie zwiększa stabilność pozycjonowania wiązki.
Sterowany laserem 650 nm autofokus automatycznie koryguje błędy wynikające z nierównych powierzchni lub podłoży będących pod skosem.


CECHY

  • Najwyższa rozdzielczość na rynku z zastosowaniem długo-żywotnego lasera diodowego 405 nm
  • Najwyższa osiągnięta rozdzielczość: 300 nm
  • Do 4095 poziomów w skali szarości lub tryb czysto binarny
  • Możliwość montażu źródła 375 nm dla wymagających zastosowań
  • Rastrowy tryb pracy
  • Wybór trybu pracy za pomocą oprogramowania
  • Wielkość podłoży od 5 mm x 5 mm do 8” x 8”

ZASTOSOWANIA

  • Półprzewodniki
  • Fotonika
  • Wytwarzanie masek
  • Litografia 3D
  • Optyka dyfrakcyjna
  • Mikrofluidyka
  • Zabezpieczenia / hologramy
  • Inne