fotorezyst

Fotorezysty

Fotorezysty do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metamateriałów, hologramów.

Oferujemy szeroką gamę fotorezystów do stosowania z technikami litografii elektronowej, laserowej, mask-aligner, do wytwarzania obwodów zintegrowanych, masek, metariałów, hologramów.

 FOTOREZYSTY E-BEAM POZYTYWOWE I NEGATYWOWE:

  • Wysokorozdzielcze do procesów mix and match i stabilne do temperatur >120˚C
  • Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
  • Fotorezysty oparte na PMMA do wytwarzania obwodów zintegrowanych i masek
  • Fotorezysty wysokiego kontrastu do wytwarzania obwodów zintegrowanych i struktur holograficznych
  • Wysokoczułe fotorezysty
  • Fotorezysty odporne na trawienie

FOTOREZYSTY OPTYCZNE POZYTYWOWE I NEGATYWOWE

  • Fotorezysty zgodne z i-, g-line, e-beam, X-ray, synchrotron, szerokie spektrum UV
  • Wysoka czułość, łatwe w usuwaniu
  • Stabilne w procesach powlekania elektrochemicznego
  • Do wytwarzania skomplikowanych struktur z trawieniem w HF
  • Do wytwarzania zintegrowanych obwodów
  • Możliwość stosowania do 300˚C
  • Fotorezysty typu „image reversal”

ODCZYNNIKI:

  • Wywoływacze
  • Utrwalacze
  • Promotory adhezji
  • Odczynniki cieniujące
  • Odczynniki do usuwania fotorezystów