Prekursory do procesów ALD/CVD

Prekursory do procesów ALD/CVD

Oferujemy prekursory chemiczne do procesów ALD (Atomic Layer Deposition) oraz CVD (Chemical Vapour Deposition). Z uwagi na niebezpieczny charakter związków będących prekursorami w procesach nakładania cienkich warstw oraz w celu zapewnienia odpowiedniej jakości używanych w procesach materiałów, prekursory dostarczamy w pojemnikach gotowych do bezpośredniego użycia w reaktorze. Dzięki temu minimalizowane jest ryzyko utraty jakości odczynnika oraz zapewnione jest bezpieczeństwo pracy dla operatora.