SPIN 200i
Spin coater
Spin coater model SPIN200i jest przeznaczony do procesów czyszczenia, suszenia, powlekania, wywoływania i/lub trawienia podłoży o średnicy do 260 mm.
Konstrukcja spin coatera zapewnia z jednej strony łatwość utrzymania czystości procesu, a z drugiej gwarantuje bardzo długą żywotność urządzenia pomimo kontaktu z agresywną chemią dzięki wyeliminowaniu jakichkolwiek metalowych elementów podatnych na korozję.
Oferowany spin coater wykonany jest w całości z tworzywa sztucznego – z polipropylenu lub teflonu.
- Nablatowy model do ręcznego lub opcjonalnie zautomatyzowanego dozowania odczynników
- System wykonany w całości z naturalnego polipropylenu (NPP) (opcjonalnie z PTFE)
- Przezroczysta pokrywa z uchwytem strzykawki do centralnego dozowania
- Elektromagnetyczna blokada pokrywy
- Złącze odłączanego kontrolera do łatwej integracji z glovebox
- Dyfuzor N2 do płukania azotem w trakcie prowadzonego procesu
- Łatwe programowanie receptur krok po kroku za pomocą dużego, kolorowego ekranu dotykowego
- 3 programowalne styki bezpotencjałowe: np. do zautomatyzowanej kontroli jednostki dozującej, dyfuzora azotu itd.
- Cyfrowe sterowanie silnika oparte na sprzężeniu zwrotnym sygnału przyrostu prędkości
- Nieograniczona pamięć programów dla receptur obejmujących wiele kroków
Możliwość ustawienia następujących parametrów procesu
| Ilość programów użytkownika | Nieograniczona |
| Ilość kroków na program | Nieograniczona |
| Prędkość | 0–12 000 obr./min |
| Czas | 0,1-99 999 s/krok |
| Prędkość | 0–12 000 obr./min |
| Kierunek obrotów | (CW, CCW, puddling) |
| Przyspieszanie/spowalnianie | 1-30 000 obr./min / s** |
| Próżnia | wł. / wył. |
| ZESTAW ZAWIERA |
| standardowy uchwyt próżniowy A-V36-S45-PP, Ø45 mm do wafli o średnicy do 8“ |
| D-V10-S50-PP, adapter do małych fragmentów, do elementów i fragmentów o średnicy ½“ do 2’’ (opcjonalnie dostępne uchwyty na inne podłoża) |
| Przyłącze spustowe 1” męskie NPT (wąż spustowy dostępny opcjonalnie) |
Uchwyty dla różnych typów podłoży:
- Fragmenty podłoży
- Niski kontakt
- Podłoża kwadratowe Maski, ogniwa słoneczne, itp. – Chipy, płytki, fragmenty itd.
- Podłoża zwykłe – Szkiełka laboratoryjne etc,
- Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe dla podłoży od 2“ do 300 mm
- Podłoża okrągłe – Uchwyty próżniowe z pinami centrującymi
- Podłoża okrągłe – Uchwyty mechaniczne z pinami centrującymi
Zestaw wkładek ochronnych do
misy i wieka powlekacza
Uchwyt na strzykawki z centralnym układem dozującym, do strzykawek pojedynczych lub potrójnych ze zintegrowanym dyfuzorem N2
Zestaw startowy strzykawek składający się z pięciu cylindrów do
dozowania chemikaliów o objętości 30 cm³, igieł i pistonów
System dozowania PERFORMUS X
Do instalacji w uchwycie strzykawkowym i sterowany przez trzy złącza bezstykowe
Narzędzie do centrowania podłoży.
Jedno narzędzie przeznaczone do centrowania podłoży o rozmiarach
od 2″ do 6″ oraz kwadratowych podłoży do 4×4″
Karbowany wąż spustowy ze złączem
Pompa próżniowa
