Uchwyty procesowe

Uchwyty do trawienia mokrego, elektrolitycznego i powlekania elektrochemicznego

UCHWYT PODŁOŻY DO TRAWIENIA BASIC II – SIL-IICXB4

Opatentowany uchwyt model Basic II dedykowany dla pojedynczych podłoży został zaprojektowany w szczególności pod kątem wytrawiania chemicznego wafli krzemowych. Wafle są przytrzymane przy użyciu próżni chroniąc zarazem przed czynnikiem trawiącym. Chroniony obszar za waflem jest wentylowany celem zapewnienia kompensacji ciśnienia.
Uchwyty dostępne dla wafli: 3”, 4”, 6”i 8”.

Użyte materiały:

  • Obudowa: PTFE modyfikowany
  • Uszczelka: EPDM

 


CHWYT PODŁOŻY DO CHEMICZNEGO TRAWIENIA HOLDER PLUS II – SIL-IICXB4C2

Opatentowany uchwyt model Plus II z wymienną uszczelką stanowi nowa generację narzędzi do wytrawiania wafli krzemowych. Uchwyt posiada dodatkową uszczelkę chroniącą przód wafla wraz z krawędzią przed czynnikiem trawiącym. Chroniony obszar za waflem jest wentylowany celem zapewnienia kompensacji ciśnienia.

  • Obudowa: PTFE modyfikowany
  • Uszczelka: EPDM
  • Pokrywa: Szkło / PTFE modyfikowane
  • Uchwyty dostępne dla wafli: 3″, 4”, 6” i 8”


UCHWYT PODŁOŻY DO ELEKTROCHEMICZNEGO TRAWIENIA HOLDER PLUS II – SIL-IIEXB4C2

Opatentowany uchwyt model Plus II z wymienną uszczelką stanowi nowa generację narzędzi do elektrochemicznego wytrawiania wafli krzemowych. Uchwyt posiada dodatkową uszczelkę chroniącą przód wafla wraz z krawędzią przed czynnikiem trawiącym. Chroniony obszar za waflem jest wentylowany do zapewnienia kompensacji ciśnienia.

  • Obudowa: PTFE modyfikowany
  • Uszczelka: EPDM
  • Pokrywa: Szkło / PTFE modyfikowane
  • Uchwyty dostępne dla wafli: 4”, 6” i 8”


UCHWYT PODŁOŻY DO POWLEKANIA ELEKTROLITYCZNEGO HOLDER PLUS/G II – SIL-IIGXB4C2

Opatentowany uchwyt model Plus/G II z wymienną uszczelką stanowi nowa generację narzędzi do powlekania elektrolitycznego wafli krzemowych. Uchwyt posiada dodatkową uszczelkę chroniącą przód wafla wraz z krawędzią przed elektrolitem. Kontakt wafla wykonany jest przy użyciu pinów z obciążoną sprężyną w uszczelce wafla krzemowego. Ilość oraz pozycja pinów kontaktowych może być dowolna zgodnie z wymaganiami użytkownika. Chroniony obszar za waflem jest wentylowany do zapewnienia kompensacji ciśnienia.

  • Obudowa: PTFE lub PMMA modyfikowane
  • Uszczelka: EPDM
  • Pokrywa: Szkło / PMMA modyfikowane
  • Uchwyty dostępne dla wafli: 4”, 6” i 8”


UCHWYT PODŁOŻY DLA PROCESÓW LIGA – SIL-IIL8454B1C1

Opatentowany uchwyt model LIGA z wymienną uszczelką stanowi nową generację narzędzi do powlekania elektrolitycznego. Uchwyt posiada dodatkową uszczelkę chroniącą przód wafla wraz z krawędzią przed elektrolitem. Kontakt podłoża wykonany jest ze srebrnej płytki na tylnej stronie podłoża. Chroniony obszar za podłożem jest wentylowany do zapewnienia kompensacji ciśnienia.

  • Obudowa: PTFE lub PMMMA modyfikowane
  • Uszczelka: EPDM
  • Pokrywa: Szkło / PMMA