Prekursory do procesów ALD/CVD

Oferujemy prekursory chemiczne do procesów ALD (atomic layer deposition) oraz CVD (chemical vapour deposition). Z uwagi na niebezpieczny charakter związków będących prekursorami w procesach nakładania cienkich warstw oraz w celu zapewnienia odpowiedniej jakości używanych w procesach materiałów, prekursory dostarczamy w pojemnikach gotowych do bezpośredniego użycia w reaktorze. Dzięki temu minimalizowane jest ryzyko utraty jakości odczynnika oraz zapewnione jest bezpieczeństwo pracy dla operatora.
Zachęcamy Państwa do kontaktu z zespołem Devmatech.


It seems we can’t find what you’re looking for. Perhaps searching can help.