Reaktor ALD Picosun P-series

Seria reaktorów do osadzania warstw atomowych ALD Picosun P-series dedykowana do produkcji wysokoprzepustowej z możliwością pełnej automatyzacji procesów z użyciem zintegrowanych robotów załadunkowych.

Reaktory ALD serii P zapewniają maksymalną wydajność procesu w połączeniu z niskimi kosztami eksploatacyjnymi urządzenia. Stosując sprawdzone technologie reaktory ALD serii P gwarantują najwyższą czystość procesu oraz jednorodność uzyskiwanych warstw na poziomie akceptowalnym przez najbardziej wymagający rynek półprzewodnikowy.

Wyniki właściwości warstw otrzymanych przez użytkowników systemu PICOSUN™ P-300 ALD na podłożach Si 300mm.

Wyniki właściwości warstw otrzymanych przez użytkowników systemu PICOSUN™ P-300 ALD na podłożach Si 300mm.
Materiał Niejednorodność (1σ)
FT = grubość warstwy
Rs = sheet resistance
Właściwości elektryczne
VBD = napięcie przebicia
Rs = sheet resistance
Al2O3 FT 0.90 % VBD > 8 MV/cm
HfO2 FT 0.35 % VBD > 3.5 MV/cm, process dependent
ZrOx FT 0.50 % Process dependent
TiN Rs 2.39 % Rs 77.4 Ω/sq.
PICOSUN™ P-200 Pro
Cecha Opis
Rodzaj i rozmiar podłoża 50 – 200 mm pojedyncze podłoże
Podłoże max. 150 mm w serii po 10-25 szt. (zależ-nie od procesu)
Opcja: Podłoża max. 200 mm w serii po 5-15 szt (zależnie od procesu)
156 mm x 156 mm solar Si wafers
Temperatura procesu 50 – 500 °C, wyższa na żądanie
Opcje załadunku podłoża Winda pneumatyczna(manualne ładowanie)
Load lock z ramieniem
Półautomatyczne ładowanie z robotem
Załadunek kaseta – do – kasety z klastrową plat-formą załadunkową
Prekursory Ciekłe, stałe, gaz, ozon, plazma
Do 6 źródeł z 4 oddzielnymi wlotami
Waga 790 kg
Wymiary (W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
Opcje Platform klastrowa, PICOFLOW™ diffusion en-hancer, zintegrowany elipsometer, QCM, RGA, generator azotu, neutralizator gazów poproceso-wych, indywidualny projekt, glove box do zała-dunku inertnego
Testy akceptacyjne Standardowe kryteria akceptacyjne dla procesu Al2O3
Do uzgodnienia: Inne procesy, specyficzne testy akceptacyjne

  • Niejednorodność
  • Poziom cząstek dodanych
  • Zanieczyszczenie metalami ciężkimi
  • Właściwości elektryczne
PICOSUN™ P-300 Advanced
Cecha Opis
Rodzaj i rozmiar podłoża Podłoża 300 mm w seriach po 10 szt.
Podłoża 200 mm w seriach po 25 szt.
156 mm x 156 mm solar Si wafers w seriach 50/100 szt. (obie strony/ back-to-back)
Tafle szkła o rozmiarach do 300 mm x 300 mm w seriach 10-20 szt.
Obiekty 3D
Roll-to-roll
Materiały porowate
Temperatura procesu 50 – 500 °C
Opcje załadunku podłoża Winda pneumatyczna(manualne ładowanie)
Linear loader
Załadunek z robotem produkcyjnym
Prekursory Ciekłe, stałe, gaz, ozon
Do 6 źródeł z 4 oddzielnymi wlotami
Waga 400 + 300 kg
Wymiary (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
Opcje Platform klastrowa, PICOFLOW™ diffusion en-hancer, zintegrowany elipsometer, QCM, RGA, generator azotu, neutralizator gazów poproceso-wych, indywidualny projekt, glove box do zała-dunku inertnego
Testy akceptacyjne Standardowe kryteria akceptacyjne dla procesu Al2O3
PICOSUN™ P-300 Pro
Cecha Opis
Rodzaj i rozmiar podłoża Podłoża pojedyncze 300 mm
Podłoża 200 mm w seriach po 25 szt.
Podłoża 150 mm w seriach po 50 szt.
Podłoża 100 mm w seriach po 75 szt.
Materiały o wysokim współczynniku HAR
Temperatura procesu 50 – 500 °C
Opcje załadunku podłoża Load lock z ramieniem
Półautomatyczne ładowanie z robotem
Załadunek kaseta – do – kasety z klastrową plat-formą załadunkową
Załadunek serii wafli z mechanizmem „Flipping”
Załadunek próżniowy serii
Szafa załadunkowa N2
Prekursory Ciekłe, stałe, gaz, ozon, plazma
Do 12 źródeł z 6 oddzielnymi wlotami
Waga 820 kg
Wymiary (W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
Opcje Platform klastrowa, PICOFLOW™ diffusion enhancer, zintegrowany elipsometer, QCM, RGA, generator azotu, neutralizator gazów poprocesowych, indywidualny projekt, glove box do załadunku inertnego
Testy akceptacyjne Standardowe kryteria akceptacyjne dla procesu Al2O3
Do uzgodnienia: Inne procesy, specyficzne testy akceptacyjne

  • Niejednorodność
  • Poziom cząstek dodanych
  • Zanieczyszczenie metalami ciężkimi
  • Właściwości elektryczne
PICOSUN™ P-1000 Pro
Cecha Opis
Rodzaj i rozmiar podłoża Podłoża 450 mm w seriach po 40 szt.
Podłoża 300 mm w seriach po 80 szt.
Podłoża 200 mm w seriach po 12×25 szt.
156 mm x 156 mm solar Si wafers w seriach 800/1000 szt. (obie strony/ back-to-back)
Tafle szkła o rozmiarach do 400 mm x 600 mm w seriach 30/50 szt. (obie strony/ back-to-back)
Obiekty 3D
Materiały o wysokim współczynniku HAR
Temperatura procesu 50 – 500 °C
Opcje załadunku podłoża Winda pneumatyczna
Załadunek z robotem przemysłowym
Prekursory Ciekłe, stałe, gaz, ozon
Do 12 źródeł z 8 oddzielnymi wlotami
Waga 2000 kg
Wymiary (W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
Opcje Platform klastrowa, QCM, RGA, generator azotu, neutralizator gazów poprocesowych, indywidualny projekt
Testy akceptacyjne Standardowe kryteria akceptacyjne dla procesu Al2O3
Do uzgodnienia: Inne procesy, specyficzne testy akceptacyjne

  • Niejednorodność
  • Poziom cząstek dodanych
  • Zanieczyszczenie metalami ciężkimi
  • Właściwości elektryczne

Źródło plazmy PICOPLASMA™

Zaawansowane odległe źródło plazmy ICP o wysokiej mocy 3000W oraz kontrolowanej częstotliwości 1.7-3 MHz zapewniające wytwarzanie plazmy rodnikowej wolnej od jonów (ion-free). Zastosowanie źródła Picoplasma umożliwia prowadzenie efektywnych procesów osadzania warstw metalicznych oraz azotków metali wspomaganych plazmą bez ryzyka spięć oraz możliwość stosowania delikatnych podłoży bez ryzyka uszkodzenia. Konstrukcja systemu zapewnia:

  • brak konieczności czyszczenia generatora plazmy po procesach ALD dzięki uniemożliwieniu wstecznej dyfuzji gazów procesowych (przepływ gazu ochronnego)
  • możliwość uruchomienia przy ciśnieniach roboczych (brak generacji cząstek)
  • konstrukcja umożliwia prowadzenie procesów termalnych oraz plazmowych w ramach jednego procesu bez konieczności mechanicznych

Systemy do nanoszenia warstw na cząstki POCA™ i PICOVIBE™

POCA™ i PICOVIBE™
Systemy ALD Picosun z serii R mogą być wyposażone w rozwiązanie typu POCA™ 200 zwiększające wszechstronność reaktora o możliwość nanoszenia warstw atomowych na cząstki. Dla wymagających aplikacji dostępny jest także system PICOVIBE™ zwiększający efektywność procesu poprzez polepszenie dystrybucji par prekursora w całej objętości prób-ki. W efekcie umożliwia naniesienie jednolitej warstwy na każdej cząstce.

Glove box

Wszystkie urządzenia ALD firmy Picosun Oy mogą być zintegrowane z komorą rękawicową „Glove box” umożliwiając bezpieczne obchodzenie się z podłożami wrażliwymi na tlen oraz wodę. Jest to możliwe zarówno w przypadku systemów wyposażonych w system załadun-kowy typu load lock oraz systemów ze standardową windą.

PICOFLOW™ diffusion enhancer

System wspomagający nanoszenie warstw na próbkach w których pory posiadają duży sto-sunek wymiarów wysokości do szerokości (high aspect ratio), próbkach proszkowych, czy też skomplikowanych nanostrukturach. System PICOFLOW™ diffusion enhancer dostępny jest dla wszystkich urządzeń ALD produkowanych przez Picosun Oy.

Pytanie o produkt

W razie pytań lub wątpliwości prosimy o kierowanie ich do nas za pośrednictwem tego formularza

  • 4 + 76 =