Rezysty do elektronolitografii

Oferujemy szeroki zakres rezystów pozytywowych i negatywowych stosowanych w elektronolitografii oraz wymaganą chemię procesową.  Rezysty przystosowane są do nakładania na podłoża metodą rozwirowania (spin coating). Charakteryzują się bardzo dobrą adhezją do krzemu, szkła oraz większości metali. Zależnie od rodzaju rezystu oraz warunków procesowych można otrzymać warstwy od 10nm to 4 mikronów.

Zachęcamy do kontaktowania się z nami celem doboru optymalnych rezystów.