Seria FLARION

Seria reaktorów plazmowych do chemicznego osadzania warstw z fazy gazowej (PECVD) oraz trawienia jonowego (RIE, DRIE).

Plasmionique oferuje reaktory PECVD w nastepujących konfiguracjach:

  • Reaktor typu parallel-plate, w którym podłoże stanowi część elektrody dolnej, natomiast napięcie RF podawane jest na elektrodę górny wytwarzając plazmę pojemnościową sprzężoną Jest to najprostszy typ reaktora.
  • Reaktor z indukcyjnie sprzężoną plazmą (ICP) umożliwia generowanie plazmy o wyższej gęstości oraz niezależną kontrolę gęstości i energii.
  • Reaktor PECVD z mikrofalowym źródłem plazmy w szczególności przystosowany do syntezy zaawansowanych materiałów takich jak DLC czy nanorurki wę
Seria FLARION
Typ reaktora Źródło plazmy Częstotliwość (MHz) Konfiguracja
parallel plate PECVD RF CCP 13.56 polaryzacja górnej elektrody, uziemione podłoże
ICP PECVD RF ICP FLARION Seria 13.56 plazma objętościowa, polaryzacja podłoża RF-
remote ICP PECVD RF ICP PLUME Seria 13.56 plazma odległa, możliwa polaryzacja podłoża RF-
MW-PECVD Mikrofalowe MIRENIQUE Seria 2450 różne (single-mode, multi-mode, S-ECR, odległa)

Pytanie o produkt

W razie pytań lub wątpliwości prosimy o kierowanie ich do nas za pośrednictwem tego formularza

  • 9 + 65 =