LisoPUR jest innowacyjnym produktem dedykowanym do usuwania rezystów w procesach wytwarzania materiałów elektronicznych. Może być używany także w procesach metal lift-off oraz Post-Etch Clean.

Dzięki jego unikalnym cechom może zastąpić tradycyjnie stosowane agresywne chemikalia zapewniając skuteczne usuwanie warstw fotorezystu bez generacji cząstek procesowych. Ponadto LisoPUR oparty na technologii Intelligent fluids®  zapewnia bezpieczeństwo procesu w przypadku wrażliwych struktur oraz jest bezpieczny i łatwy w użyciu.

Unikalna technologia Intelligent fluids® w wodnych roztworach esPRO LisoPUR oparta jest na dynamicznej zmianie wewnętrznej struktury fluidu z częstotliwością dochodzącą do 1000 – 8000 razy na sekundę. Dzięki temu zjawisku możliwe jest w przeciwieństwie do wszystkich innych używanych związków mechaniczne usunięcie warstwy fotorezystu bez jego rozpuszczania poprzez penetrację fluidu w przestrzenie pomiędzy warstwą fotorezystu i podłożem.

 

LisoPUR nie zawiera żadnych rozpuszczalników ani agresywnych chemicznie związków kwaśnych lub zasadowych. Preparat LisoPUR jest przetestowany dermatologicznie i może być używany bez żadnego ryzyka.

LisoPUR jest kompatybilny z: krzemem, tlenkiem krzemu, azotkiem krzemu, tytanem, metalami, tlenkami metali oraz innymi podłożami. Stało się to możliwe dzięki zastosowaniu czysto fizycznego mechanizmu usuwania fotorezystu bez jakiegokolwiek udziału czynnika chemicznego takiego jak rozpuszczanie.

Wszystkich chętnych Państwa do przetestowania produktu LisoPUR zachęcamy do kontaktu z nami.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pytanie o produkt

W razie pytań lub wątpliwości prosimy o kierowanie ich do nas za pośrednictwem tego formularza

  • 4 + 66 =