P-1000

Przemysłowy reaktor ALD

Przemysłowy reaktor ALD do dużych podłoży 3D

System PICOSUN® P-1000 ALD jest specjalnie  przeznaczony do okresowego seryjnego powlekania różnych podłoży 3D, takich jak części maszyn mechanicznych, szkła, blachy, monet, części zegarków i biżuteria, soczewek urządzeń medycznych oraz implantów.

GŁÓWNE CECHY:

  • Niezależne wloty prekursorów do komory
  • Uniwersalna komora do wszystkich rodzajów podłoży
  • Jednorodna temperatura w całej objętości komory reakcyjnej
  • Prosta obsługa za pomocą komputera z ekranem dotykowym

TYPOWE PODŁOŻA:

  • Wszystkie rodzaje podłoży 3D – części mechaniczne, monety, elementy zegarków i biżuterii, soczewki, implanty chirurgiczne (rozwiązania PicoMEDICAL™)

TEMPERATURA PROCESU

50 – 400°C

TYPOWE PROCESY

  • Tlenki: Al2O3, TiO2, ZnO

ZAŁADUNEK PODŁOŻY

  • Ręczny załadunek z wykorzystaniem np. wózka widłowego

PREKURSORY

  • 10 linii prekursorowych (ciekłe, gazowe, stałe, ozon)
  • 6 niezależnych wlotów do komory