P-300B

Przemysłowy reaktor ALD do podłoży o średnicy 300 mm i serii podłoży 3D

System PICOSUN® P-300B ALD jest specjalnie zaprojektowany do produkcji urządzeń MEMS, głowic drukujących, czujników mikrofonów, oraz do powlekania różnych elementów 3D, takich jak części maszyn, szkła lub blachy, monet, biżuterii, zegarków, elementów optycznych oraz urządzeń medycznych i implantów.

GŁÓWNE CECHY:

  • Niezależne wloty prekursorów do komory
  • Uniwersalna komora do wszystkich rodzajów podłoży
  • Jednorodna temperatura w całej objętości komory reakcyjnej
  • Prosta obsługa za pomocą komputera z ekranem dotykowym

TYPOWE PODŁOŻA:

  • Podłoża 200 mm w seriach 25 sztuk
  • Podłoża 150 mm w seriach 50 sztuk
  • Podłoża 100 mm w seriach 75 sztuk
  • Wszystkie rodzaje podłoży 3D – części mechaniczne, monety, elementy zegarków i biżuterii, soczewki, implanty chirurgiczne (rozwiązania PicoMEDICAL™)
  • Podłoża porowate, na wskroś porowate i podłoża o wysokim współczynniku HAR  (do 1:2500)

TEMPERATURA PROCESU

50 – 500°C

TYPOWE PROCESY

  • Procesy produkcyjne z czasem cyklu poniżej 10 sekund
  • Niejednorodność warstw pomiędzy podłożami w serii <1% 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 pkt, 5mm EE)
  • Tlenki: Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,
  • Azotki: TiN, AlN
  • Metale: Pt, Ir, Ru

ZAŁADUNEK PODŁOŻY

  • Winda pneumatyczna (ładowanie ręczne)
  • Pół-automatyczny załadunek liniowy
  • Załadunek za pomocą robota przemysłowego

PREKURSORY

  • 8 linii prekursorowych (ciekłe, gazowe, stałe, ozon)
  • 4 niezależne wloty do komory