Tag Archives: atomic layer deposition

Picosun Oy, wiodący dostawca urządzeń oraz technologii do nanoszenia cienkich warstw metodą ALD nawiązał współpracę z Osram Opto Semiconductors oraz partnerami naukowymi celem wytworzenia nowej generacji źródeł światła typu LED. W ramach projektu zaprojektowane zostaną LEDy charakteryzujące się bardzo wysoką jasnością świecenia oraz długą żywotnością. Na chwilę obecną stanowi to olbrzymie wyzwanie dla całej branży. W chwili obecnej […]

Firma Picosun Oy światowy lider w produkcji systemów ALD  nawiązał współpracę z Hitachi High-Technologies Corporation w zakresie rozwoju nowych technologii nanoszenia cienkich warstw atomowych wspomaganych plazmą typu ECR (elektronowy rezonans cyklotronowy). W odróżnieniu od stosowanej dotychczas plazmy ICP nowe źródło charakteryzujące się wysoką mocą otwiera nowe możliwości rozwoju technik nakładania warstw charakteryzujących się znacznie lepszą jakością oraz […]